真空氣氛爐是一種用于高溫處理材料的熱處理設備。是利用真空環(huán)境或惰性氣體氛圍將樣品置于高溫下進行熱處理或燒結。通常由以下部分組成：爐膛、加熱元件、保溫材料、真空泵組、氣體控制系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)。

　　真空氣氛爐的工作原理是在爐腔這定空間內利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空閥門、真空測量儀表、冷阱、管道等部件經過精心組裝而成)將爐腔內部分物質排出，使爐腔內壓強小于個標準大氣壓，爐腔內空間從而實現真空狀態(tài)，在真空狀態(tài)下通過電熱元件加熱的工業(yè)爐，真空環(huán)境中進行加熱的設備。

　　與常規(guī)熱處理設備不同，真空氣氛爐可以通過在爐內控制氣氛和壓力來控制熱處理過程中的反應氣氛，從而獲得更加精確和高質量的熱處理效果。該產品在材料科學、新材料研發(fā)、半導體行業(yè)、金屬制品行業(yè)、陶瓷行業(yè)、玻璃行業(yè)、粉末冶金等領域有廣泛的應用。例如，真空氣氛爐可以用于半導體硅片的退火和擴散處理，也可以用于鋼鐵、鋁合金等金屬制品的熱處理、氣氛調節(jié)和表面改性。